

涂有鍍銅保護劑的鍍銅層在空氣中沒有那么容易被氧化,如果不使用,極易被氧化。 原因分析表明,極易被氧化失去光澤,且銅質較軟,易活化,可與其他金屬鍍層形成良好的金屬金屬結合,從而獲得鍍層間良好的附著力。 因此,銅可以作為許多金屬電鍍層的底層,鍍銅在印制板的生產(chǎn)中起著重要的作用。 印刷電路板的鍍銅包括化學鍍銅和電鍍銅,其中電鍍銅是PCB制造中的重要工序。 本文主要介紹PCB電鍍銅工藝、PCB操作應注意的技術問題,以及一些常見故障的原因及解決方法。
排除此類故障的措施包括:根據(jù)霍爾池測試或工件情況控制鍍液中光亮劑的消耗比例; 不要以為增白劑越多,亮度就越好。 光亮劑過量時,在低電流密度區(qū)會出現(xiàn)亮與不亮的明顯分界,復雜零件的鍍層會出現(xiàn)斑點。 添加的增白劑越多,它的亮度就越低。 這時,如果通過加入少量雙氧水來提高亮度,則應去掉一些光亮劑。 對于任何一種電鍍添加劑,都要堅持少加、多加的原則。
光亮劑種類繁多(如M、N型鍍銅),需要在長期的PCB生產(chǎn)實踐中積累合適的光亮劑成分比例。 經(jīng)驗表明,鍍光亮銅開缸劑與添加劑的配比要求很嚴格,不同鍍液溫度下鍍液中多硫化二丙磺酸鈉的消耗量較大,M與N的消耗比也不同。 為了得到一般的補充比例,只能考慮25℃~30℃的比例。 最理想的情況是將各種光亮劑配制成標準稀溶液,經(jīng)常使用霍爾元件進行測試調整。
控制鍍液中的氯離子含量。 如果懷疑是鍍液中的氯離子引起的故障,應先通過試驗加以確認。 大槽中不能盲目加鹽酸來調節(jié)和控制鍍液中硫酸銅和硫酸的含量也很重要,它們與陽極溶解和陽極含磷量有關。
光亮劑分解產(chǎn)物在鍍液中的積累會導致鍍層亮度整平性差,低電流密度區(qū)不亮。 當發(fā)現(xiàn)相同配比的光亮劑在相同浴溫下的消耗量遠高于正常值時,應懷疑有機雜質過多。 有機溶劑過多,電鍍液中沒有銅粉;,但PCB鍍層會析出附著力差的銅粉沉淀。 這時要處理鍍液中的有機雜質。 另外,不要忽視有機雜質對低電流密度區(qū)亮度的不利影響。 小電流時對有機雜質的敏感性特別強。 實踐證明,對于長期未經(jīng)處理的光亮銅鍍液,如果僅采用39/L的優(yōu)質活性炭吸附有機雜質,霍爾池試片在低電流下的全光亮范圍 密度區(qū)域可能會擴大幾毫米。
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